講演情報
[9a-P01-5]DLC 成膜用HiPIMS プラズマ基礎特性の数値解析
〇阿部 元暉1、太田 貴之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大、2.名城大)
キーワード：
大電力パルスマグネトロンスパッタリング、スパッタリング、シミュレーション
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(High Power Impulse Magnetron Sputtering; HiPIMS)は, 高硬度DLCの成膜に有効な技術とされている. 一方で, 炭素粒子のイオン化率と成膜条件との相関は未解明である. そこで本報告では, パルス長やピーク電力密度が炭素粒子のイオン化率に及ぼす影響を解析したため, その結果を報告する.