Presentation Information
[9a-P02-8]MBE growth and structural characterization of MoO3 thin films grown on an SrTiO3 substrate with a step-terrace surface
〇(M1)Yuto Kanbayashi1, Hiroto Tsuruyama1, Sena Yamamoto1, Yuichi Hirofuji1, Nobuya Hiroshiba1, Kazuto Koike1 (1.Osaka Inst. of Tech. NMRC)
Keywords:
MoO3,MBE,SrTiO3
表面をステップ処理したSrTiO3(100)基板上にMoO3薄膜をMBE成長した。ステップ処理には純水で希釈したフッ酸とフッ化アンモニウムを混合させたエッチャントを用いた。基板温度250、300、350℃で成膜した薄膜に対してXRD測定を行ったところ、250℃、300℃ではb軸配向のβ相MoO3薄膜が，350℃ではa軸配向のα相MoO3薄膜が優先的に成長することがわかった。このことから、成長温度を変えることで結晶相を制御した成長が可能であることが示された。