[16a-K302-1~4] 13.8 Optical properties and light-emitting devices

11:15 AM - 11:30 AM JST(2:15 AM - 2:30 AM UTC)

[16a-K302-4] Preparation of porous BiVO₄/WO₃ thin films and evaluation of their photoelectrode properties

〇(M2)Ryuta Abe¹, Masami Nishikawa¹, Tomohiko Nakazima² (1.Nagaoka Univ. of Tech, 2.AIST)

Keywords:

photoelectrode,porous

本研究では光電極の効率を高めることを目的として、BiVO₄とWO₃から成る多孔質の複合膜を作製した。陽極酸化法を用いて、NaF水溶液中でタングステン板に電圧を印加することで多孔質WO₃膜を作製した。可視光照射下において電気化学的水分解試験を行った結果、多孔質WO₃光電極は、非多孔質WO₃光電極と比べて水の酸化電流が大きいことを確認した。MOD法を用いて、多孔質WO₃光電極にBiVO₄を複合化すると、水の酸化電流が向上することを明らかにした。