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11:45 AM - 12:00 PM JST(2:45 AM - 3:00 AM UTC)

[10a-E218-11]Real-time surface temperature distribution measurement of silicon wafer using Optical Interference Contactless Thermometry (OICT)

〇Harumu Ono¹, Taiyo Yagi¹, Jiawen Yu¹, Hiroaki Hanafusa¹, Seiichiro Higashi¹ (1.Hiroshima Univ.)

Keywords:

semiconductor,temperature measurement

半導体の製造プロセスにおいて, シリコンウェハの面内温度分布をリアルタイムで測定する技術が求められている. 我々は、ウェハに照射したレーザー反射光から得られる干渉波形を解析することで温度を求める光学干渉非接触温度測定法(Optical-Interference Contactless Thermometry：OICT)を開発し, リアルタイム測定に適用してきた. 本研究では, OICT測定系を多点測定に拡張し, 8点測定によって300 mmシリコンウェハの面内温度分布をリアルタイムで解析することを試みた.

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