講演情報
[10a-E218-11]光学干渉非接触温度測定法(OICT)を用いたシリコンウェハのリアルタイム面内温度分布測定
〇小野 遥夢1、八木 太陽1、YU JIAWEN1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広大院先進理工)
キーワード：
半導体、温度測定
半導体の製造プロセスにおいて, シリコンウェハの面内温度分布をリアルタイムで測定する技術が求められている. 我々は、ウェハに照射したレーザー反射光から得られる干渉波形を解析することで温度を求める光学干渉非接触温度測定法(Optical-Interference Contactless Thermometry：OICT)を開発し, リアルタイム測定に適用してきた. 本研究では, OICT測定系を多点測定に拡張し, 8点測定によって300 mmシリコンウェハの面内温度分布をリアルタイムで解析することを試みた.