[10a-N102-1~9] KS5 Atomic Layer Process Group

9:00 AM - 9:30 AM JST(12:00 AM - 12:30 AM UTC)

[10a-N102-1] [Invited Talk] Atomic layer deposition for oxide semiconductors

〇Takanori Takahashi¹, Yukiharu Uraoka¹ (1.NAIST)

Keywords:

oxide semiconductor,atomic layer deposition

酸化物半導体における原子層堆積技術の技術動向を概説し、本研究グループの研究成果を紹介する。