[10p-B12-1~7] KS5 Atomic Layer Process Group

2:00 PM - 2:15 PM JST(5:00 AM - 5:15 AM UTC)

[10p-B12-1] Imaging Ellipsometry with LHAR Test Structure for Characterizing ALD-Al2O3 Film Conformality

〇Hiroshi Nishizato¹, Ishida Kanta¹, Nakaya Yugo², Nasu Kinichi³, Hirayama Mikiro³, Jin Lianhua⁴, Momose Takeshi³ (1.GSST, Kumamoto Univ., 2.HORIBA STEC, 3.REISI, Kumamoto Univ., 4.Univ. of Yamanashi)

Keywords:

atomic layer deposition,Imaging Ellipsometry

内作したイメージングエリプソメトリーと横方向高アスペクト比（Lateral High Aspect Ratio: LHAR）テスト構造を組み合わせ、薄膜形成における3次元（3D）構造への膜の浸透深度（Penetration Depth: PD）を定量的に評価する新たな手法を開発した。テスト構造には、Si基板端部に広く浅い溝を設けた後に石英プレートを被せた平行平板構造（アスペクト比: 300）を用いた。その後、トリメチルアルミニウム（TMA）とH₂Oを用いたAl₂O₃-ALDにおいて有効性を確認した。