[10p-E206-1~10] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[10p-E206-4] Evaluation of Ti-doped SnO₂ Thin Film Deposited by RF Magnetron Co-Sputtering

〇Tatsumi Nakamura¹, Yuta Shinohara¹, Genki Sugiura³, Hyunju Lee^2,3, Yoshio Ohshita³, Atsushi Ogura^1,2 (1.School of Sci. & Tech., Meiji Univ, 2.MREL, 3.Toyota Tech. Inst)

Keywords:

tandem solar cell,TCO,co-sputtering

PVSK/SHJタンデム太陽電池用TCOとしてTi-doped SnO2薄膜をRFマグネトロン共スパッタリング法を用いて作製し、Ti RF出力が特性に与える影響を評価した。Ti出力10 Wで電子移動度と900–1200 nmにおける膜内透過率が最大となった。これはTi添加による結晶性向上及び酸素欠陥抑制に起因すると考えられ、Ti RF出力の最適化が電気・光学特性の改善に有効であることが示された。