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[10p-E310-6]Deposition Characteristics of a-C:H for Hard Mask using Cumene Plasma CVD
〇Shinjiro Ono1, Takamasa Okumura1, Kunihiro Kamataki1, Kazunori Koga1, Masaharu Shiratani1 (1.Kyushu Univ.)
Keywords:
plasma CVD,cumene,deposition characteristics
水素化アモルファスカーボン（a-C:H）膜はドライエッチングプロセスにおける保護膜として有用だが、低応力を維持しつつ膜密度を向上させることは、重要な課題の一つである。我々は、1分子当たりの炭素原子数が多く、水素原子数が少ないことから、製膜材料として有望であるクメン(C9H12)に着目し、本研究では、クメンプラズマCVDにおける堆積特性の向上を目的として、製膜中のイオン照射の効果について議論した。