講演情報
[10p-E310-6]クメンプラズマCVDを用いたハードマスク用a-C:H膜の製膜特性
〇小野 晋次郎1、奥村 賢直1、鎌滝 晋礼1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九大)
キーワード：
プラズマCVD、クメン、製膜特性
水素化アモルファスカーボン（a-C:H）膜はドライエッチングプロセスにおける保護膜として有用だが、低応力を維持しつつ膜密度を向上させることは、重要な課題の一つである。我々は、1分子当たりの炭素原子数が多く、水素原子数が少ないことから、製膜材料として有望であるクメン(C9H12)に着目し、本研究では、クメンプラズマCVDにおける堆積特性の向上を目的として、製膜中のイオン照射の効果について議論した。