[10p-F211-1~8] Interfacial Nanoelectrochemistry for Next-Generation Semiconductor Strategies - From Geopolitics to Advanced Wet Processing -

3:45 PM - 4:15 PM JST(6:45 AM - 7:15 AM UTC)

[10p-F211-6] Electrostatic charging phenomena in single-wafer semiconductor wet processes

〇Sato Masanobu¹ (1.SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.)

Keywords:

semiconductor,wet process,charging phenomena

枚葉半導体ウェットプロセスでは、回転するウェハに超純水を吐出して洗浄を行う際、ウェハ表面が帯電することが知られている。本報告では、半導体枚葉洗浄においてシリコン酸化膜上を純水で洗浄した際に発生する帯電現象について、帯電量の測定方法、洗浄条件による帯電挙動、ならびに除電技術を含めた純水帯電現象の概論を述べる。