Presentation Information
[10p-PA2-27]Optical Properties of SiN and SiON Deposited by ECR Plasma-Assisted Sputtering
〇Taisei Wakamiya1, Haruki Takizawa1, Yoshihiro Shimazaki1, Hironori Torii1, Hiroshi Murotani2, Toramaru Masamitsu3, Jin Yoshito3 (1.JSW Ltd., 2.Tokai Univ., 3.JSW AFTY Co.)
Keywords:
Thin film,Optical Properties,Sputtering
本研究では，2基のECRスパッタ源を備えた装置（AFTEX-8200，JSW-AFTY社製）を用いてを用いて波長300 nm以下で低吸収かつ高屈折率な光学薄膜材料として，SiNおよびSiONに着目し，その光学特性を評価した．