講演情報
[10p-PA2-27]ECR プラズマアシストスパッタ法で成膜されたSiNとSiONの光学特性
〇若宮 大生1、滝沢 春樹1、島崎 好広1、鳥居 博典1、室谷 裕志2、寅丸 雅光3、神 好人3 (1.日本製鋼所、2.東海大院工、3.JSWアフティ)
キーワード：
薄膜、光学特性、スパッタリング
本研究では，2基のECRスパッタ源を備えた装置（AFTEX-8200，JSW-AFTY社製）を用いてを用いて波長300 nm以下で低吸収かつ高屈折率な光学薄膜材料として，SiNおよびSiONに着目し，その光学特性を評価した．