Presentation Information
[10p-PA2-31]Effects of Sputtering Gas Species and Substrate Heating on the Properties of Ta Thin Films
〇(M1)Haruno Hasegawa1, Yuya Fujitani1, Midori Kawamura1, Takayuki Kiba1 (1.Kitami Inst. Tech.)
Keywords:
thin film,sputtering
スパッタリング法を用いたTa薄膜の作製においてスパッタガス種と基板加熱が膜特性へ与える影響を調査した。ガストラップを抑制するためにKrガスを使用し、表面拡散を促進するために基板加熱を行った。結果としては結晶性の向上や抵抗率の低下がみられ、ガス種選択と温度制御の重要性が示された。