講演情報

[10p-PA2-31]Ta膜作製におけるスパッタガス種及び基板加熱の影響

〇(M1)長谷川暖乃¹、藤谷勇矢¹、川村みどり¹、木場隆之¹ (1.北見工大)

薄膜、スパッタリング

スパッタリング法を用いたTa薄膜の作製においてスパッタガス種と基板加熱が膜特性へ与える影響を調査した。ガストラップを抑制するためにKrガスを使用し、表面拡散を促進するために基板加熱を行った。結果としては結晶性の向上や抵抗率の低下がみられ、ガス種選択と温度制御の重要性が示された。