Presentation Information
[10p-PA2-36]Evaluation of Oxide Film Thickness Using O1s Intensity Attenuation in Angle-Resolved HAXPES
〇Makiho Eguchi1, Ayuki Yoshizumi1, Riki Satoh1, Ichika Takeshima1, Naoyoshi Kubota1 (1.NSTEC Co.)
Keywords:
Angle-Resolved HAXPES,Non-destructive oxide film thickness evaluation
角度分解硬X線光電子分光（AR‑HAXPES）における、O1s強度の取り出し角依存性を利用した酸化膜厚評価法を提案した。厚膜SiO₂標準試料で装置関数を補正し、指数減衰モデルに基づき膜厚を算出した結果、既知10 nmに対して10.8 nmと良好に一致し、波形分離に依存しない簡便な評価法の有効性を示した。