講演情報
[10p-PA2-36]角度分解硬X線光電子分光法におけるO1s強度減衰を用いた酸化膜厚の評価法
〇江口 真季穗1、吉住 歩樹1、佐藤 力樹1、竹島 一花1、久保田 直義1 (1.日鉄テクノロジー)
キーワード：
角度分解硬X線光電子分光法、非破壊酸化膜厚評価
角度分解硬X線光電子分光（AR‑HAXPES）における、O1s強度の取り出し角依存性を利用した酸化膜厚評価法を提案した。厚膜SiO₂標準試料で装置関数を補正し、指数減衰モデルに基づき膜厚を算出した結果、既知10 nmに対して10.8 nmと良好に一致し、波形分離に依存しない簡便な評価法の有効性を示した。