Presentation Information
[10p-PB1-24]Optimization of the release process for freestanding La1.85Sr0.15CuO4 membrane using epitaxial lift-off technique
〇(M1)Shiho Irie1, Junichi Shiogai1,2, Takumi Yamazaki3, Takeshi Seki3,4,5, Jobu Matsuno1,2 (1.Dept. of Phys., Univ. of Osaka, 2.OTRI-Spin, Univ. Osaka, 3.IMR, Tohoku Univ., 4.CSIS, Tohoku Univ., 5.SRIS, Tohoku Univ.)
Keywords:
film,superconductivity,epitaxial lift-off
Bi系銅酸化物超伝導体では、弱い層間結合を利用した機械的剥離法によりフレーク試料を作製することが可能であり、ツイスト接合などの面内の構造自由度を活用したデバイス研究が盛んに行われている。一方で、本手法をイオン結合性の強い物質群へ適用することは容易ではない。本研究では、La1.85Sr0.15CuO4 (LSCO) のフレーク試料の作製を目的として、エピタキシャルリフトオフ法による剥離プロセスの確立に取り組んだ。