[11a-A31-1~13] 6.2 Carbon-based thin films

12:00 PM - 12:15 PM JST(3:00 AM - 3:15 AM UTC)

[11a-A31-12] Structure and Properties of Amorphous Carbon Films for Advanced Semiconductor Patterning: Insights from Raman spectroscopy

〇Toshihiro Kamei¹ (1.AIST SFRC)

Keywords:

Amorphous Carbon Film,Hard Mask,Raman Scattering Spectroscopy

本研究では、量産用PECVD装置により製膜されたアモルファスカーボン膜（ACF）を包括的に材料評価した上で、Raman散乱分光測定を行い、NMRによって示唆された鎖状sp²炭素種の存在を検証した。