Presentation Information
[11a-B32-6]Epitaxial β-In2S3 thin films grown via vertical chemical vapor deposition
〇Yuuta Tanaka1, Yanase Takashi1 (1.Toho Univ.)
Keywords:
indium sulfide,thin film,chemical vapor deposition
Ⅲ-Ⅵ族n型半導体であるβ-In2S3は光電変換素子への応用が期待されている。本研究では独自開発した縦型化学気相蒸着装置 (VCVD) を利用してIn2S3薄膜の合成技術の確立を目指した。従来のCVDと比べ均一で再現性の高い蒸着が期待される。得られたオレンジの基板を光学顕微鏡像で観察すると一方向に配向した三角結晶が確認できた。XRD及びRamanスペクトルから(103) 方向に配向成長したβ-In2S3であると確認できた。
