Presentation Information
[11a-E301-4]Investigation of Deposition Conditions for growing High-Quality Cu2O Thin Films by Mist CVD
〇(M2C)Ryosuke Ohashi1,2, Chiaki Watanabe1, Ryoma Yoshida1, Kei Mizumoto1,2, Hetet Su Wai1, Sohaib Hassan1, Toshiyuki Kawaharamura1,2,3 (1.KUT., 2.Graduate School of Eng., 3.Rws. Inst.)
Keywords:
Mist CVD,Cu2O Thin Films,combined Fine Chanel type
現在、大気圧下での機能性薄膜作製手法として注目されているミストCVD法にて、太陽電池等への応用が期待されているCu2O薄膜の作製を行った。本研究では高品質Cu2O薄膜の作製を目的とし、原料溶液の選定などを行った。また、本研究室独自のcFH式反応炉や冷却工程の導入、熱処理などを行い、最適な薄膜作製条件の検討を行った。当日はそれらのサンプルの評価結果と考察、今後の展望等について発表する。