Presentation Information
[11a-PA2-1]Nano micro surface generation via Si epitaxial growth using helicon-sputtering
〇Akira Kakuta1, Keisuke Watanabe1 (1.NIT,Tokyo College)
Keywords:
epitaxial growth,nano micro texture surface
代表寸法 nm 又は µm スケールの単位規則形状が配列されている表面(ナノ・マイクロテクスチャ面)を作製するために，本研究では，ヘリコンスパッタリング分子線源を用いた分子線エピタキシャル成長 (MBE) による方法の確立をめざしている．本研究では，分子の動きに影響を与える様々な表面構造を事前に設定するために，予め µm スケールの形状の規則的配列構造（プレパターン）を付与した単結晶（111）Si基板に体する創成過程を調べた．