[11p-B21-1~9] Atomic Layer Process (ALP) analysis and application technologies (4)

3:45 PM - 4:00 PM JST(6:45 AM - 7:00 AM UTC)

[11p-B21-6] Neural Network Potential Molecular Dynamics Study of Hydrogen Radical Reduction and Penetration Behaviors in Nb PEALD

〇Noboru Sato¹, Tamaoki Naoki¹, Tsukune Atsuhiro¹, Shimogaki Yukihiro¹ (1.Tokyo Univ)

Keywords:

Nb ALD,Atomic Layer Deposition,Molecular dynamics simulation

NbCl₅/H₂によるNb PEALDの低抵抗化を目的に、水素プラズマ照射過程をNNP分子動力学で解析した。低エネルギーHは表面のCl還元を促進し、実験でも残留Clを0.1%オーダーまで低減したが、抵抗率改善は限定的であることを応物春(2026)にて報告した。今回の計算より、Cl還元は入射エネルギーに、Nb内部へのH侵入は入射角に依存し、α/β-Nb相分離による細粒化の可能性が示唆された。