[11p-B21-1~9] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（４）

15:45 〜 16:00

[11p-B21-6] Nb PEALD における水素ラジカルの還元反応および侵入挙動の NNP 分子動力学解析

〇佐藤 登¹、玉置 直樹¹、筑根 敦弘¹、霜垣 幸弘¹ (1.東大)

キーワード：

Nb ALD、原子層堆積法、分子動力学シミュレーション

NbCl₅/H₂によるNb PEALDの低抵抗化を目的に、水素プラズマ照射過程をNNP分子動力学で解析した。低エネルギーHは表面のCl還元を促進し、実験でも残留Clを0.1%オーダーまで低減したが、抵抗率改善は限定的であることを応物春(2026)にて報告した。今回の計算より、Cl還元は入射エネルギーに、Nb内部へのH侵入は入射角に依存し、α/β-Nb相分離による細粒化の可能性が示唆された。