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[11p-E206-3]Preparation of Type II Ge clathrate Films with Thicknesses of 100 nm or Less and Their Near-Ultraviolet Absorption Properties

〇Yuma Iwahashi1, Tetsuji Kume1,2,3, Fumitaka Ohashi1,2,3, Himanshu Jha1,2, Rahul Kumal3, Eito Ito1 (1.GNST, Gifu Univ., 2.Gifu Univ., 3.Gifu Collage)

Keywords:

semiconductor,Ge clathrate

Na内包ⅠⅠ型Geクラスレート(NaxGe136)は、Na原子を内包するかご状構造を有している。我々はこれまでサファイア基板上にNaxGe136膜を作製する技術を確立し、透過率測定によって光吸収スペクトルを明らかにしてきた。しかし、光子エネルギーが3 eVを超えると強い吸収のため、高エネルギー領域における光吸収特性は不明であった。本研究では、NaxGe136のさらに薄い膜の作製を試みると共に、近紫外領域における光吸収特性の評価を目的とした。