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[8a-A21-5]Electrochemical Impedance Spectroscopy of AlGaN/GaN Heterostructures under Photoexcitation and Bias Conditions

〇Enku Takahashi1, Satoaki akazawa1, Kazuhide Kumakura1, Yoshitaka Taniyasu2, Taketomo Sato1 (1.RCIQE, Hokkaido Univ., 2.NTT BRL)

Keywords:

nitride semiconductor

本研究では、AlGaN/GaNヘテロ構造の半導体/溶液界面に電気化学インピーダンス分光法(EIS)を適用し、暗中および波長360nm、330nmの光照射下におけるEIS特性を評価した。等価回路解析により、AlGaN層および半導体/溶液界面に由来すると考えられる複数の時定数成分を分離した。さらに、CPE指数のバイアス依存性から、光照射下における界面応答の空間的不均一性が示唆された。