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5:15 PM - 5:30 PM JST(8:15 AM - 8:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[8p-A21-14]Low Refractive Index SiO₂ Optical Thin Film Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation part 6

〇kota morikawa¹, tajima naoya¹, wakamiya taisei², murotani hiroshi¹ (1.Graduate School of Eng., Tokai Univ., 2.The Japan Steel Works,LTD.)

Keywords:

optical thin film,slicon dioxide,molecular bonding

光学薄膜の屈折率を任意に制御することで光学特性の向上が可能となる．本研究室では成膜圧力が大きく異なるEB蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に搭載した複合成膜法を開発している．これまで本手法を用いてSiO₂光学薄膜の屈折率を1.17まで低屈折化することに成功し、屈折率制御性を活かしSiO₂のみで構成された光学多層膜の作製にも成功している．本報告では複合成膜法により作製したSiO₂光学薄膜の分子結合状態について検討した．

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[8p-A21-14]Low Refractive Index SiO2 Optical Thin Film Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation part 6

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[8p-A21-14]Low Refractive Index SiO₂ Optical Thin Film Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation part 6