講演情報
[8p-A21-14]複合成膜により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜(6)
〇森川 康大1、田島 直弥1、若宮 大生2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.(株)日本製鋼所)
キーワード：
光学薄膜、二酸化ケイ素、分子結合
光学薄膜の屈折率を任意に制御することで光学特性の向上が可能となる．本研究室では成膜圧力が大きく異なるEB蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に搭載した複合成膜法を開発している．これまで本手法を用いてSiO2光学薄膜の屈折率を1.17まで低屈折化することに成功し、屈折率制御性を活かしSiO2のみで構成された光学多層膜の作製にも成功している．本報告では複合成膜法により作製したSiO2光学薄膜の分子結合状態について検討した．