Presentation Information
[8p-PB3-1]Effect of Hydrogen Flow Rate on Low-Temperature Graphene Formation using High-Power Pulsed Sputtering and Plasma CVD
〇Akihiro Iwata1, Masanori Shinohara1 (1.Fukuoka Univ.)
Keywords:
high-power pulsed sputtering,graphene,plasma CVD
低温・触媒フリーでのグラフェン形成を目指し，カーボンターゲットを用いた大電力パルススパッタリングとスチレンを原料とするプラズマCVDを組み合わせた手法において，水素流量の影響を検討した。ラマン分析の結果，水素流量の増加により欠陥が増加し，結晶性が低下するとともに，低温条件ではグラフェン形成が阻害されることが示唆された。