講演情報
[8p-PB3-1]大電力パルススパッタリングとプラズマCVDを用いた低温グラフェン形成における水素流量の影響
〇岩田 晃拓1、篠原 正典1 (1.福岡大)
キーワード：
大電力パルススパッタリング、グラフェン、プラズマCVD
低温・触媒フリーでのグラフェン形成を目指し，カーボンターゲットを用いた大電力パルススパッタリングとスチレンを原料とするプラズマCVDを組み合わせた手法において，水素流量の影響を検討した。ラマン分析の結果，水素流量の増加により欠陥が増加し，結晶性が低下するとともに，低温条件ではグラフェン形成が阻害されることが示唆された。