[9a-E218-1~10] 13.8 Optical properties and light-emitting devices

10:30 AM - 10:45 AM JST(1:30 AM - 1:45 AM UTC)

[9a-E218-6] Fabrication of Water dispersible Silicon Quantum Dots via Ultrasonication-Based Cracking approach

〇Junpei Tsuneyama¹, Shota Sasaki¹, Yuta Naito¹, Nobuyoshi Koshida^1,2, Toshihiro Nakamura¹ (1.Hosei Univ., 2.Tokyo Univ. of A&T)

Keywords:

Silicon quantum dots,dispersibility,nanoelectronics

半導体量子ドットの中でも環境に優しいSi量子ドットに着目し、従来用いられていた危険なフッ化水素を使わない新たな作製手法として、超音波照射による多孔質Siの物理的破砕を検討した。超音波照射により粒子の微細化と同時に表面に極性分子を導入し、水中で安定に分散するコロイドを得た。さらに観察および発光特性の評価から、得られた粒子が量子ドットであり、その発光がサイズ効果に由来することを明らかにした。