講演情報
[9a-E218-6]多孔質Siの超音波破砕による水分散性Si量子ドットの作製
〇常山 純平1、佐々木 翔太1、内藤 優太1、越田 信義1,2、中村 俊博1 (1.法政大学理工、2.東京農工大)
キーワード：
Si量子ドット、分散性、ナノエレクトロニクス
半導体量子ドットの中でも環境に優しいSi量子ドットに着目し、従来用いられていた危険なフッ化水素を使わない新たな作製手法として、超音波照射による多孔質Siの物理的破砕を検討した。超音波照射により粒子の微細化と同時に表面に極性分子を導入し、水中で安定に分散するコロイドを得た。さらに観察および発光特性の評価から、得られた粒子が量子ドットであり、その発光がサイズ効果に由来することを明らかにした。