[9p-E208-1~11] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

3:45 PM - 4:00 PM JST(6:45 AM - 7:00 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[9p-E208-9] Increase in sensitivity of PMMA resist using alkyl acetate and alcohol mixed developer

〇Natsuko Hori¹, Yukiko Kishimura¹, Ryoichi Hoshino², Hironori Asada¹ (1.Yamaguchi Univ., 2.Fine Material System Inc.)

Keywords:

electron beam resist,PMMA,ester development

本研究室では、MIBKに代わるPMMAの代替現像液として、エステル溶媒について検討している。今回、エステル溶媒にエ タノールを添加したところIPA同様、混合比が少ないところで大幅な感度向上がみられたので報告する。