Presentation Information
[9p-E311-4]Enhancement of piezoelectric constants in ScAlN thin films by introducing a Lu buffer layer
〇Kenji Hirata1, Kodai Niitsu2, Sri Ayu Anggraini1, Taisuke Kageura1, Masato Uehara1, Hiroshi Yamada1, Morito Akiyama1 (1.AIST, 2.NIMS)
Keywords:
nitride,piezoelectric material
Sc添加AlN(ScAlN)は高い圧電性能を有するため弾性波フィルターに使用されている。圧電性能の向上にはScを高濃度でAlN中に固溶させる必要があるが、Scの固溶量は最大で43 mol%程度であり、その際の圧電定数は27.6 pC/Nと報告されている。本研究では、ScAlN薄膜にルテチウムを下地層として導入することにより、Scの固溶量の増大を図り、圧電定数のさらなる向上を試みた。
