Presentation Information
[9p-N101-9]Semi-Insulating Zn-Doped GaN Grown by an Acidic Ammonothermal Method
〇Takayuki Ishinabe1, Takuya Hirosawa1, Tatsuya Takahashi1, Yuji Kagamitani1, Kenji Iso1,2, Satoru Izumisawa1 (1.Mitsubishi Chemical, 2.Nagoya University)
Keywords:
GaN,Semi-Insulating,Ammonothermal
GaN on GaN HEMTデバイスを普及させるためには、大口径かつ安価な半絶縁GaNウェハーが必要不可欠である。我々は低圧酸性アモノサーマル法を用い、100 MPa以下の圧力でGaN基板を成長する技術を開発してきた。本研究では、酸性アモノサーマル法にてZnドーピング成長を行い、半絶縁性GaNの作製及び評価した結果を報告する。
