[10p-E310-1~11]Low-Temperature Plasma Technologies Enabling the Future of Semiconductor Manufacturing
Thu. Sep 10, 2026 1:30 PM - 5:45 PM JST
Thu. Sep 10, 2026 4:30 AM - 8:45 AM UTC
Thu. Sep 10, 2026 4:30 AM - 8:45 AM UTC
E310 (First Year Education Bld. E Block)
Chair : Tatsuo Ishijima(Kanazawa Univ.), Hirofumi Kurita(Toyohashi Univ. of Tech.), Hajime Sakakita(Meijo Univ.)
先端ロジック半導体の微細化が進む中、それを支える低温プラズマプロセスの最新動向を俯瞰する。ナノスケールデバイス向け精密加工技術、PFAS対応の分析・計測技術、AIを活用したプロセスインフォマティクスを通して、次世代半導体製造の技術課題と将来展望を議論する。