Presentation Information
[15a-PA5-1]Controlling the Initiation Point of Explosive Crystallization in Amorphous Si Films
〇(M1)Souma Shimabukuro1, Kensaku Maeda1, Keisuke Ohdaira1 (1.JAIST)
Keywords:
Flash Lamp Annealing,Thin-film crystalline silicon
ガラス基板上にCat-CVD法で形成したa-Si膜におけるFLAによる爆発的結晶化の起点を制御することを目的として、レーザー補助FLA装置を開発した。構築した装置は、チャンバー側面の窓からレーザー光を入射し、チャンバー内部に配置したミラーを介して基板表面に照射する構造である。ディレイジェネレータを用いてFLAとレーザー光照射のタイミングの精密制御を実現した。