[15a-PA5-1~16] 16 Amorphous and Microcrystalline Materials (Poster)

[15a-PA5-3] Effect of firing times on the electrode formation on crystalline Si surface using Ag ink

〇Haruto Yano¹, Kei Kashizaki², Masayuki Kanehara², Kensaku Maeda¹, Keisuke Ohdaira¹ (1.JAIST, 2.C-INK)

Keywords:

Ag ink

窒化Si膜を堆積したn^＋エミッタ付きSiウェハにAgインクを印刷後、焼成回数を変更してRTAを行った試料の接触抵抗値を測定し比較した。850 ℃、総焼成時間2400 sで焼成した試料のTLM法により導出した抵抗値の比較から、焼成回数が少ないウェハの計測データのばらつきが相対的に大きくなる事が確認された。焼成時間を変更した試料においても、同様の傾向を確認した。