[15a-S4_203-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

9:30 AM - 9:45 AM JST(12:30 AM - 12:45 AM UTC)

[15a-S4_203-3] SC1/SC2 chemical cleaning using wafer droplet cleaning technology

〇Kazumasa Nemoto¹, Noriko Miura¹, Shinichi Ikeda¹, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Hundred)

Keywords:

Minimal Fab,Wafer Cleaning Technology

ミニマルファブでの洗浄装置では、ウェハを保持するウェハステージにリングを装着する事により、ウェハ裏面空間に薬液を溜めることができ、このことによりウェハ表面と裏面の表面張力が連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、同時両面洗浄が可能になる。今回、RCA薬液洗浄の洗浄効率(省薬液、処理時間短縮)を向上させることにより、少ない薬液量と短い時間で洗浄出来ることがわかった。