[15p-WL2_101-1~13] 6.3 Oxide electronics

4:15 PM - 4:30 PM JST(7:15 AM - 7:30 AM UTC)

[15p-WL2_101-11] Observation of the Formation Process of Metallic Phase Domains in VO₂ Thin Films on the TiO₂(110) by AFM Current Imaging

〇Tatsuhiro Negi¹, Ai I. Osaka¹, Seiji Nakashima¹, Hironori Fujisawa¹ (1.Univ. of Hyogo)

Keywords:

VO2/TiO2(110),AFM current imaging,metallic phase domains

二酸化バナジウム(VO₂)は温度変化により金属―絶縁体相転移を示し、正方晶c軸方向の伸縮を伴う結晶構造変化が生じる。TiO₂(110)基板上に成長させたVO₂は、正方晶c軸が基板面内方向に拘束され構造変化が制限されるため、金属相ドメインの生成挙動が変化すると考えた。本研究ではVO₂/TiO₂(110)薄膜に対してAFM電流像測定を行い金属相ドメインの生成過程を観察した。観察された金属相ドメインは電気的特性の測定結果と良い一致を示すことが確認された。