[16a-WL2_401-1~8] 6.2 Carbon-based thin films

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16a-WL2_401-6] Effects of gas pressure on the film properties of amorphous carbon nitride films deposited by sputtering and preparation of continuous band-gap graded films

〇Wakana Koya¹, Kohei Takaki¹, Hiromi Shima², Takaaki Morimoto³, Masami Aono¹ (1.Kagoshima Univ., 2.NDA Inf., 3.NDA MSE.)

Keywords:

carbon nitride,thin film,sputtering

本研究では、スパッタ法における成膜ガス圧（P_N）がアモルファス窒化炭素（a-CN_x）薄膜の膜特性に及ぼす影響を調べ、P_Nを制御することで傾斜バンドギャップ構造をもつa-CN_x薄膜の作製を試みた。先行研究では、a-CN_xの光学バンドギャップ制御を成膜温度により行っていたが、本研究では新たに圧力勾配式スパッタ法を用いることで、成膜ガス圧による制御を可能とした。