[16a-WL2_401-1~8] 6.2 カーボン系薄膜

11:00 〜 11:15奨励賞エントリー

[16a-WL2_401-6] スパッタ法で作製したアモルファス窒化炭素薄膜の膜質におよぼす成膜ガス圧力の影響と光学バンドギャプ傾斜膜の作製

〇神谷 和奏¹、髙木 康平¹、島 宏美²、森本 貴明³、青野 祐美¹ (1.鹿大院理工、2.防衛大通信、3.防衛大機能材料)

キーワード：

窒化炭素、薄膜、スパッタ法

本研究では、スパッタ法における成膜ガス圧（P_N）がアモルファス窒化炭素（a-CN_x）薄膜の膜特性に及ぼす影響を調べ、P_Nを制御することで傾斜バンドギャップ構造をもつa-CN_x薄膜の作製を試みた。先行研究では、a-CN_xの光学バンドギャップ制御を成膜温度により行っていたが、本研究では新たに圧力勾配式スパッタ法を用いることで、成膜ガス圧による制御を可能とした。