[16a-WL2_401-1~8] 6.2 Carbon-based thin films

11:15 AM - 11:30 AM JST(2:15 AM - 2:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16a-WL2_401-7] Effects of RF Power and Gas Pressure on Photo-induced Deformation of Amorphous Carbon Nitride Thin Films Deposited by Pressure-gradient Sputtering

〇(M1)Kohei Takaki¹, Wakana Koya¹, Seigo Miyata¹, Yohei Sato², Masami Terauchi², Hiromi Shima³, Keiji Komatsu⁴, Masami Aono¹ (1.Kagoshima Univ., 2.IMRAM Tohoku Univ., 3.NDA, 4.Nagaoka Univ.)

Keywords:

thin film,sputtering

反応性高周波(RF)マグネトロンスパッタ法で作製したアモルファス窒化炭素薄膜に可視光を照射すると光誘起変形現象が生じる。本研究では、光誘起変形量の向上を目指し、成膜圧力とRF電力を変化させてアモルファス窒化炭素薄膜を作製し、その化学結合状態を分光学的手法を用いて調べた。その結果、低圧力で作製したアモルファス窒化炭素薄膜はsp²結合の割合が比較的高く、窒素含有率が低い傾向がみられた。