Presentation Information
[16p-W9_326-1]Investigation of fabrication process for Co-integration of Heterogeneous Material /MEMS on SOI Substrates toward realizing higher functional PICs
〇Daiki Sakurai1, Yoshishige Tsuchiya2, Yoshitaka Oiso1, Kaibin Yao1, Haoyu Chen1, Eissa Moataz1, Tsuyoshi Horikawa1, Keisuke Kawahara1, Nobuhiko Nishiyama1,3 (1.Science Tokyo, 2.University of Southampton, 3.NEX-SECC)
Keywords:
Optical Integrated Circuit,MEMS,Heterogeneous Material Integration
近年、AIやIoTサービスの普及に伴い、光集積回路の重要性や性能要求が高まっている。我々はこれまで、光集積回路に向けた、異種材料集積技術提案してきた[1][2]。今回、更なる光集積回路の高機能化に向け、それぞれ独立して研究開発が行われてきた異種材料集積と光MEMS技術を統合することを提案する。その一歩として、本報告では、Ⅲ‐Ⅴ属半導体チップが異種材料集積されたSOI基板上でのMEMS作製プロセスについて報告する。
