[16p-W9_327-1~16] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)

[16p-W9_327-5] [The 59th Young Scientist Presentation Award Speech] Crystallization Behavior of Sputter-Deposited Amorphous VTe₂ Thin Films and Phase Engineering via Compositional Control

〇Shuhei Orihara¹, Yi Shuang^1,2, Daisuke Ando¹, Yuji Sutou^1,2 (1.Tohoku Univ. (Eng), 2.Tohoku Univ. (AIMR))

Keywords:

thin film,VTe2,sputtering

本講演では、スパッタ成膜したアモルファスVTe₂薄膜の結晶化挙動と、組成制御による相形成の特徴を整理した。VとTeのRF出力を変化させることでVTe₂~V₃Te₄に相当する組成域のV-Te薄膜を成膜し、アニーリング後に各相に対応する回折ピークと層状構造を確認した。加えて、組成に依存した結晶化温度の違いに着目し、ホール測定・光学測定から、結晶化に伴う伝導特性の変化について検討した。