Presentation Information
[16p-WL2_401-3]Thermoelectric properties of annealed nano-grained bulk n-type Si-Ge.
〇Ryogo Ishihara1, Keisuke Hirata2, Masaharu Matsunami1, Tsunehiro Takeuchi1 (1.Toyota Tech. Inst., 2.The Univ. of Tokyo)
Keywords:
Thermoelectric materials,Silicon germanium
電子構造制御,粒成長の抑制および,酸素吸収材料を用いた酸化の抑制を施したn型Si-Ge熱電材料において,低温域での高比抵抗が課題であった.本研究ではアニール処理による局在状態の緩和を試みた.その結果,室温付近で-300 μVK–1を超えるゼーベック係数を維持しつつ,比抵抗を20 mΩcm以下まで低減させることに成功した.詳細な熱電特性を報告する.
