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[17a-M_110-9]Fabrication and Characterization of Vertical-Electric-Field Phase Shifter for Thin-Film LiNbO3Mach-Zehnder Interferometer

〇Takeru Einaga1, Kyosuke Komatsu1, Masami Morita1, Yoshiki Katagiri2, Soshi Umeda2, Kentaro Nonaka2, Masahiro Uemukai1, Tomoyuki Tanikawa1, Ryuji Katayama1 (1.Univ. of Osaka, 2.NGK INSULATORS, LTD.)

Keywords:

Thin Film Lithium Niobate,Mach-Zehnder Interferometers,Phase Modulation

成膜技術の発展に伴い、薄膜LiNbO3を用いた光集積デバイスへの応用が注目されている。垂直電界印加型マッハツェンダ干渉計は、高い集積密度が期待できる。我々はこれまで、SiO2マスクに傾斜を設ける再堆積抑制手法を報告してきたが、本手法はプロセス裕度が狭く、収率の確保が困難であった。そこで本研究では、再堆積物の抑制をチャンバ内圧力の減圧によって実現し、作製した導波路において位相変調動作を実証した。