Presentation Information
[17a-PA2-14]Noble metal growth by Mist CVD and evaluation of their properties
〇Shiori Ishikawa1, Isao Takahashi2, Haruka Sawamizu2, Koki Morimoto1 (1.Qualtec Co., Ltd., 2.Ritsumeikan Univ.)
Keywords:
noble metal,Plating,Mist Chemical Vapor Deposition
貴金属は電気伝導性、耐腐食性、触媒性など様々な優れた物理特性を有するが、めっきでは絶縁体上の成膜が困難であり、蒸着等真空プロセスでは装置コスト等が課題である。これを解決するために大気圧成膜可能なミストCVDを用いた成膜の検討をしている。本研究では、絶縁体、半導体、金属など、様々な基板を用い、PtやRu等の成膜を行った。また、それらの膜の物性評価や密着性に関する発表を行う。