[17a-PA2-1~26] 6.4 Thin films and New materials

[17a-PA2-9] Fabrication of Zirconium Oxide Films Grown by Mist CVD

〇(M1)Yudai Yona¹, Isao Takahashi^2,4, Koichi Matsuo³, Tokiyoshi Matsuda¹, Kentaro Kaneko^2,4 (1.Grad. Sch. of Sci. and Eng. Kindai Univ., 2.ROST Ritsumeikan Univ., 3.Iwasaki Electric Co., Ltd., 4.RISA Ritsumeikan Univ.)

Keywords:

Zirconium Oxide,catalyst,carbon dioxide

近年、ZrO₂はCO₂を分解する光触媒用途で注目を集めている。本研究はミストCVD法によって単相のZrO₂薄膜の成膜を試みたものであり、前駆体溶液としてメタノールにジルコニウムアセチルアセトナートを溶解させ、水添加の有無と成長温度を変化させて成膜した。表面SEM観察およびEDSによる元素分析とエリプソメトリーによる光学特性測定を行い、水添加の有無と成長温度が膜質に与える影響を評価した。