講演情報
[17a-PA2-9]ミストCVD法による酸化ジルコニウム薄膜の作製
〇(M1)與那 優大1、髙橋 勲2,4、松尾 浩一3、松田 時宜1、金子 健太郎2,4 (1.近大院総合理工、2.立命館大総研、3.岩崎電気㈱、4.立命館大半導体応用研究センター)
キーワード：
酸化ジルコニウム、触媒、二酸化炭素
近年、ZrO2はCO2を分解する光触媒用途で注目を集めている。本研究はミストCVD法によって単相のZrO2薄膜の成膜を試みたものであり、前駆体溶液としてメタノールにジルコニウムアセチルアセトナートを溶解させ、水添加の有無と成長温度を変化させて成膜した。表面SEM観察およびEDSによる元素分析とエリプソメトリーによる光学特性測定を行い、水添加の有無と成長温度が膜質に与える影響を評価した。